网站首页 收藏 留言 繁体
网站首页 关于我们 企业新闻 产品中心 行业资讯 营销网络 常见问题 工程案例 联系我们

相关内容

硅片超声波清洗技术有哪些?

   硅片超声波清洗在半导体材料的制备过程中,每一道工序都涉及到清洗,而且清洗的好坏直接影响下一道工序,甚至影响器件的成品率和可靠性。由于ULSI集成度的迅速提高和器件尺寸的减小,对于晶片表面沾污的要求更加严格,ULSI工艺要求在提供的衬底片上吸附物不多于500/m2×0.12um,金属污染小于 1010atom/cm2。晶片生产中每一道工序存在的潜在污染,都可导致缺陷的产生和器件的失效。因此,硅片的清洗引起了专业人士的重视。以前很多厂家都用手洗的方法,这种方法人为的因素较多,一方面容易产生碎片,经济效益下降,另一方面手洗的硅片表面洁净度差,污染严重,使下道工序化抛腐蚀过程中的合格率较低。所以,硅片的清洗技术引起了人们的重视,找到一种简单有效的清洗方法是当务之急。专业介绍了一种超声波清洗技术,其清洗硅片的效果显著,是一种值得推广的硅片清洗技术。
   超声波清洗设备使用晶片表面层原子因垂直切片方向的化学键被破坏而成为悬空键,形成表面附近的自由力场,尤其磨片是在铸铁磨盘上进行,所以铁离子的污染就更加严重。同时,由于磨料中的金刚砂粒径较大,造成磨片后的硅片破损层较大,悬挂键数目增多,极易吸附各种杂质,如颗粒、有机杂质、无机杂质、金属离子、硅粉粉尘等,造成磨片后的硅片易发生变花、发蓝、发黑等现象,使磨片不合格。硅片清洗的目的就是要除去各类污染物,清洗的洁净程度直接决定着ULSI向更高集成度、可靠性、成品率发展,这涉及到高净化的环境、水、化学试剂和相应的设备及配套工艺,难度越来越大,可见半导体行业中清洗工艺的重要性。

分类: 易清行业资讯  
返回顶部


上海易净清洗厂家 版权所有!并保留所有权利。禁止复制,否则追究法律责任!
热点产品导航: 超声波清洗器 小型超声波清洗机 超声波清洗机 上海超声波清洗机 文章如果有侵犯版权,请告知我们删除. Copyright © 2010 上海易净超声波仪器有限公司 版权所有 www.yqcsb.com All Rights Reserved. 7X24小时咨询服务热线:13916161583 备案序号:沪ICP备10211404号-1Powered by CmsEasy

网站地图